********************************************************************* [分子科学会速報19-013] 第35回化学反応討論会のお知らせ ********************************************************************* 速報発信者：高口博志（広島大学） 第35回化学反応討論会のお知らせ 第35回化学反応討論会（35th Symposium on Chemical Kinetics and Dynamics）を下記の通り開催致します。 多数のお申込みをお待ちしております。 会期 ２０１９年６月５日（水）－７日（金） 会場 東広島芸術文化ホールくらら（広島県東広島市西条栄町7-19） 〔交通〕 ＪＲ山陽本線 西条駅下車、徒歩約4分 主催 第３５回化学反応討論会実行委員会 共催 日本化学会 協賛 分子科学会、原子衝突学会、日本分光学会 討論主題 気相・凝縮相・表面・界面における化学反応の速度論、 および動力学に関する実験と理論。 励起状態の生成と緩和を含む。 招待講演者 寺嵜 亨 先生 (九州大学) 中井 浩巳 先生 (早稲田大学) 渡部 直樹 先生 (北海道大学) Dr. Oskar Asvany (Cologne University, Germany) Prof. Andrew Orr-Ewing (University of Bristol, U.K.) Prof. Chia Chen Wang (National Sun Yat-sen University, Taiwan) 発表形式 口頭（発表１５分，討論１０分）・ポスター 発表申込方法 ホームページ (http://sckd.jp/) よりお申し込み下さい。 発表申込締切 ３月１１日（月） 予稿原稿締切 ４月１９日（金） 参加登録予約申込締切 ４月１９日（金） 参加登録費 一般：予約6,000円，当日7,000円 学生：予約2,000円，当日3,000円 第３５回化学反応討論会実行委員長 高口博志（広島大院理） sckd35@sckd.jp ********************************************************************* 分子科学会速報 発行：分子科学会 http://www.molsci.jp/index.html 速報投稿規程等は下記をご覧下さい。 http://www.molsci.jp/bulletin.html ********************************************************************* PCから水冷静音/高密度サーバ/GPUまで、HPC製品開発メーカー リアルコンピューティング株式会社 http://www.realcomputing.jp/ E-Mail；sales@realcomputing.jp Tel；03-5621-7211 *********************************************************************